工件有焊接處理，外表需清潔，不能氧化層或埋孔，而且需求提前指出，以評估是否適合涂層；工件外表不能有銹跡、腐蝕、油漆、膠水、膠料。工件不能是拼裝件，拼裝件。有必要拆開(kāi)后分別涂層；螺絲、堵頭號有必要拆除。鍍鈦技術(shù)是時(shí)下不銹鋼廠(chǎng)家加工不銹鋼時(shí)常用的一種工序。將色彩斑斕的金屬離子通過(guò)電鍍的方式鍍到不銹鋼表面不僅可以提升觀(guān)賞性，不銹鋼材質(zhì)的整體性能也會(huì )有所提升。那么在鍍鈦加工時(shí)應該要注意些什么呢?

另一類(lèi)是有機污物，包括動(dòng)植物油脂、礦物油脂、混合油脂、熱粘附物及拋光膏殘渣等。電鍍時(shí)，即使是微量的污物層殘留于表面，也會(huì )造成鍍層結合不牢及剝落等缺陷，所以污物層務(wù)必除凈，這一工序稱(chēng)為除油。電鍍時(shí)，基體不銹鋼屏風(fēng)和不銹鋼屏風(fēng)鍍層之間常因存在非不銹鋼的夾層而不能形成連續的結晶結構，造成鍍層起泡或脫落等結合不良的缺陷。因此，必須清除氧化皮、銹及氧化物等變質(zhì)層。

與之對應的化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDepsition)簡(jiǎn)稱(chēng)為CVD技術(shù)。行業(yè)內通常所說(shuō)的“IP”(ionplatin離子鍍膜，是因為在PVD工藝技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過(guò)程并起到重要作用，為了強調離子的作用，而統稱(chēng)為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤(pán))上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。